ASML执行长：美国限制EUV设备出口导致中国晶片制造落后10至15年

荷兰晶片设备制造商ASML的执行长福克（Christophe Fouquet）近日表示，由于美国实施对中国的技术禁运，特别是限制出口极紫外光（EUV）曝光设备，中国的半导体制造技术预计将落后西方大约10至15年。福克在接受荷兰《商务日报》（NRC Handelsblad）采访时详细阐述了美国对中国晶片产业的限制性措施，及其对全球半导体供应链的影响。

美国的制裁对中国晶片产业的影响

福克指出，随着美国的出口禁令，中国无法获得ASML公司生产的尖端EUV设备，这直接导致了中国在晶片制造技术上与西方的差距日益加大。EUV技术是目前全球最先进的曝光技术，主要用于7奈米及以下制程的半导体生产。ASML是全球唯一能提供EUV曝光系统的公司，因此，中国无法获得这一技术意味着其在最先进的晶片制造领域处于明显的技术劣势。

“这些限制措施确实产生了效果，”福克说道。“如果没有EUV技术，中国的技术进步将停滞不前，至少在未来的10至15年内，难以赶上西方的先进水平。”

中国的半导体行业依然坚韧自强

尽管如此，福克也对中国半导体产业的韧性给予了肯定。他表示，虽然中国的晶片制造业面临重重挑战，但其依然在奋力前行。中国在半导体产业的各个环节都有一定的技术积累，尤其是在成熟制程技术方面，依靠自主研发取得了一定的进展。福克认为，不论是中国、美国还是其他国家，都会将ASML视作全球半导体产业的重要环节和关键供应商。

ASML的未来战略与中国市场

福克还谈到了近期关于美国要求荷兰禁止ASML为中国提供维修服务的报道。对此，福克表示，ASML希望继续管理在中国市场的设备，以确保其能够正常运转。若中国企业自行维修设备，可能会面临安全和信息泄露的风险，特别是在敏感技术领域。“我们希望美国政府能理解这一点，避免过度干预。”他强调道。

EUV技术对全球半导体行业的重要性

目前，全球约90%的半导体产品都依赖ASML的曝光系统进行生产。随着半导体制程不断向更小的尺寸演进，EUV技术在先进制程中的重要性愈加突出。尤其是随着5奈米及以下制程的逐步普及，EUV技术不仅成为半导体生产的核心工具，也深刻影响着全球半导体产业的竞争格局。

综上所述，虽然美国对中国半导体产业的技术限制已经产生了显著影响，但中国仍在努力通过自主研发来缩小与西方国家之间的差距。然而，在未来的半导体技术竞争中，EUV技术无疑将继续成为全球晶片制造的制胜关键，而ASML则将在这一过程中扮演不可或缺的角色。

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